簡(jiǎn)要描述:Eksma 雙波段激光反射鏡-4激光線反射鏡是介電反射鏡,在規(guī)定的激光波長(zhǎng)下具有優(yōu)良性能。雙波段激光鏡可用于需要兩條激光線反射的應(yīng)用。
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品牌 | Eksma | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma 雙波段激光反射鏡-4
介電雙波段鏡可在規(guī)定的波長(zhǎng)(基本和倍頻激光線或基本激光線及其對(duì)準(zhǔn)光束)提供99.5%的反射率。
產(chǎn)品介紹
Ø高反射鏡(99.5%反射率)
Ø設(shè)計(jì)用于45°或0°入射角
Ø由BK7玻璃或UV級(jí)熔融石英制成
Eksma 雙波段激光反射鏡-4
激光線反射鏡是介電反射鏡,在規(guī)定的激光波長(zhǎng)下具有優(yōu)良性能。雙波段激光鏡可用于需要兩條激光線反射的應(yīng)用。
我們的激光鏡由BK7或石英制成,并涂有多層介電鍍膜。獲得的高拋光質(zhì)量對(duì)于低波前畸變,低散射和高損傷閾值也很重要。
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產(chǎn)品型號(hào)
UVFS; ø50.8 x 8 mm
型號(hào) | 材料 | D | ET | R, %(S+P)/2 | AOI | 波長(zhǎng) | 應(yīng)用 | |||||||
065-2635 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 266+355 nm | Nd:YAG 4H+3H | |||||||
065-2635-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 266+355 nm | Nd:YAG 4H+3H | |||||||
065-2653 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 266+532 nm | Nd:YAG 4H+2H | |||||||
065-2653-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 266+532 nm | Nd:YAG 4H+2H | |||||||
065-3553 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 355+532 nm | Nd:YAG 3H+2H | |||||||
065-3553-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 355+532 nm | Nd:YAG 3H+2H | |||||||
065-3506 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 355+1064 nm | Nd:YAG 3H+1H | |||||||
065-3506-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 355+1064 nm | Nd:YAG 3H+1H | |||||||
065-4080 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 390-410+780-820 nm | Ti:Sa 2H+1H | |||||||
065-4080-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 390-410+780-820 nm | Ti:Sa 2H+1H | |||||||
065-5103 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 500-530+1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 2H+1H | |||||||
065-5103-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 500-530+1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 2H+1H | |||||||
065-5306 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 532+1064 nm | Nd:YAG 2H+1H | |||||||
065-5306-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 532+1064 nm | Nd:YAG 2H+1H | |||||||
065-6306 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 633+1064 nm | HeNe:Nd:YAG 1H | |||||||
065-6306-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 633+1064 nm | HeNe:Nd:YAG 1H | |||||||
UVFS; ø76.2 x 12.7 mm 型號(hào) | 材料 | D | ET | R, %(S+P)/2 | AOI | 波長(zhǎng) | 應(yīng)用 | |||||||
067-2635 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 266+355 nm | Nd:YAG 4H+3H | |||||||
067-2635-i0 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 266+355 nm | Nd:YAG 4H+3H | |||||||
067-2653 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 266+532 nm | Nd:YAG 4H+2H | |||||||
067-2653-i0 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 266+532 nm | Nd:YAG 4H+2H | |||||||
067-5103 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 500-530+1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 2H+1H | |||||||
067-5103-i0 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 500-530+1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 2H+1H | |||||||
067-3506 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 355+1064 nm | Nd:YAG 3H+1H | |||||||
067-3506-i0 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 355+1064 nm | Nd:YAG 3H+1H | |||||||
067-5306 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 532+1064 nm | Nd:YAG 2H+1H | |||||||
067-5306-i0 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 532+1064 nm | Nd:YAG 2H+1H | |||||||
067-6306 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 633+1064 nm | HeNe:Nd:YAG 1H | |||||||
067-6306-i0 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 633+1064 nm | HeNe:Nd:YAG 1H |
SUBSTRATE
材料 | BK7 *玻璃或UV級(jí)熔融石英 |
S1表面平整度 | λ/10 typical at 633 nm |
S1表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度激光質(zhì)量 |
S2表面質(zhì)量 | 簡(jiǎn)單拋光 |
直徑公差 | + 0.00 mm, - 0.12 mm |
厚度公差 | ± 0.25 mm |
楔 | < 3 minutes |
倒角 | 0.3 mm at 45° typical |
鍍膜
技術(shù) | 電子束多層電介質(zhì) |
附著力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。不溶于實(shí)驗(yàn)室溶劑 |
通光孔徑 | 超過中心直徑的85% |
損壞閾值 | BK7雙線鏡-1 J / cm2,8 ns脈沖,典型1064 nm |
鍍膜表面平整度 | UVFS雙線反射鏡-2 J / cm2,8 ns脈沖,典型1064 nm |
入射角 | 633 nm處的λ/ 10超過直徑的85% |
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過嚴(yán)格的檢查程序,質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾,我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)(Bureau Veritas)頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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