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Eksma ND：YAG激光脈沖的電動可變衰減器

簡要描述：Eksma ND：YAG激光脈沖的電動可變衰減器
該可變衰減器/分束器由直徑為50.8毫米的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成，該偏振片反射s偏振光，同時透射p偏振光，并安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階（光學接觸）中。半波片直徑25.4毫米（用于飛秒應用）或零級空氣間隔半波片（用于高功率應用），其放置在旋轉的偏振片支架840-0190-01中，并放置在入射的線性偏振激光束中。

  • 產品品牌：Eksma
  • 廠商性質：代理商
  • 更新時間：2021-03-19
  • 訪  問  量：870

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詳細介紹

品牌Eksma價格區間面議
組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子,綜合

Eksma 飛秒級和ND：YAG激光脈沖的電動可變衰減器990-0072M


Eksma ND：YAG激光脈沖的電動可變衰減器

具有ø22 mm通光孔徑的電動可變衰減器，由薄膜偏振片，半波片和光機械組成，易于設置。波片的電動旋轉允許連續改變輸出光束的強度比。

產品介紹

Ø將激光束分為兩束手動調節的強度比，以68°角分開

Ø大動態范圍

Ø透射光束偏移?1毫米

Ø高光學損傷閾值

該可變衰減器/分束器由直徑為50.8毫米的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成，該偏振片反射s偏振光，同時透射p偏振光，并安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階（光學接觸）中。半波片直徑25.4毫米（用于飛秒應用）或零級空氣間隔半波片（用于高功率應用），其放置在旋轉的偏振片支架840-0190-01中，并放置在入射的線性偏振激光束中。

可以通過旋轉波片來連續改變那兩個分離且不同的偏振光束的強度比，而無需改變其他光束參數。可以在很寬的動態范圍內控制出射光束的強度或其強度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當透射光束發生較大衰減時可以反射高純度s偏振。

840-0056-12運動學安裝座允許將薄膜Brewster型偏振片的入射角（AOI）調整為±4.5°，并獲得較大的消光對比度。支架位于桿，桿支架和可移動基座820-0090上。

距桌面的光軸高度可以在78-88 mm的范圍內調節。可以提供其他高度作為定制，以將標準桿和桿架更改為更高的高度。

Eksma ND：YAG激光脈沖的電動可變衰減器

產品型號

飛秒激光脈沖

型號

波長

損壞閾值

配置

990-0072-343M

343 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-343M+CP

343 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-400M

400 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-400M+CP

400 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-515M

515 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-515M+CP

515 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-800M

800 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-800M+CP

800 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-800BM

780-820 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-800BM+CP

780-820 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-1030M

1030 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-1030M+CP

1030 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-1030BM

1010-1050 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-1030BM+CP

1010-1050 nm

>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

大功率激光應用

型號

波長

損壞閾值

配置

990-0072-266HM

266 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-266HM+CP

266 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-343HM

343 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-343HM+CP

343 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-400HM

400 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-400HM+CP

400 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-515HM

515 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-515HM+CP

515 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-800HM

800 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-800HM+CP

800 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-800HBM

780-820 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-800HBM+CP

780-820 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-1030HM

1030 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-1030HM+CP

1030 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

990-0072-1030HBM

1010-1050 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

without controller & power supply

990-0072-1030HBM+CP

1010-1050 nm

>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm

with controller & power supply

 

旋轉分辨率：全步模式

在1/8步進模式下


0.6 arcmin
4.5 arcsec

較高轉速

50 deg/s

適用于Nd：YAG激光應用

通光孔徑

22 mm

損害閾值

>5 J/cm2
pulsed at 1064 nm, typical

偏振比

>1:200

飛秒應用

通光孔徑

22 mm

損害閾值

大功率激光應用：

>10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical
>100 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical

時間分散

t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses

偏振比

>1:200

 

推薦設置

控制器

980-1045

電源

PS12-2.5-4

上述控制器和電源已包含在衰減器套件中，其代碼結尾為“ + CP”。

 EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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